




ST系列鍍膜機
ST系列鍍膜機系我司標準化產(chǎn)品,滿足大部分實驗室科研需求,豐富的可選配置也可響應您的特殊需要。特點:1、集成一體化結(jié)構(gòu)。
2、極限真空度高,可達7×10-5Pa,可保證更高的鍍膜純凈度,提高鍍膜質(zhì)量。
3、從大氣到工作背景真空(7×10-4Pa)時間短,30分鐘左右(充干燥氮氣)。 系統(tǒng)停泵關(guān)機12小時后真空度:≤8Pa。
4、整機采用柜式結(jié)構(gòu),密封性能好,防塵防水,安全。
5、磁控、熱蒸發(fā)多種鍍膜方式可選。
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CT系列鍍膜機
CT(Custamued workstation)系列鍍膜機系我司非標定制產(chǎn)品,根據(jù)您的要求單獨設計,滿足您的特殊需要。
特點:1、按需開發(fā),量身定制。
2、整機采用柜式結(jié)構(gòu),密封性能好,防塵防水,安全。
3、磁控、熱蒸發(fā)多種鍍膜方式可選
4、可集成手套箱系統(tǒng)
5、可集成多種自動化應用
想了解更多產(chǎn)品信息,您可撥打圖片上的電話咨詢!艾明坷竭誠為您服務!
真空鍍膜機鍍制薄膜不均勻的解決方法
制的薄膜的均勻性都會受到某種因素影響。真空狀態(tài)需要抽氣系統(tǒng)來控制的,每個抽氣口都要同時開動并力度一致,這樣就可以控制好抽氣的均勻性,如果抽氣不均勻,在真空室內(nèi)的壓強就不能均勻了,壓強對離子的運動是存在一定的影響的。另外抽氣的時間也要控制,太短會造成真空度不夠,但太長又浪費資源,不過有真空計的存在,要控制好還是不成問題的。但在鍍鎘中含有氫,所以在飛行過程中,受到大氣、海水的腐蝕,鍍層上容易產(chǎn)生“鎘脆”,甚至引起“空難”。
真空鍍膜機的真空室設計方法
真空鍍膜技術(shù)是在真空條件下采用物理或者化學方法,使物體表面獲取所需膜體,真空鍍膜技術(shù)根據(jù)其采用方法的不同科分成蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積以及分子束外延等,這次分析的鍍膜設備采用的是磁控濺射鍍膜。
真空室是真空設備的一個主要組成部位,真空鍍膜設備真空室設計主要考慮的就是密封性和可靠性,結(jié)構(gòu)必須要合理,真空設備的材料生產(chǎn)都是在真空室內(nèi)進行的,材料對真空度的影響要小,設計不能馬虎,要注意一些問題。
使用磁控濺射的真空鍍膜機一般采用的是圓筒主體結(jié)構(gòu),結(jié)構(gòu)上要保證快速抽空,因氣袋會緩慢的放氣,因此要避免出現(xiàn)隔離孔穴,真空系統(tǒng)上端會加裝磁控濺射槍,為了使真空室和元件有足夠的強度,保證在外部和內(nèi)部的作用力下不產(chǎn)生形狀的變化,厚度需要足夠。
焊接是真空室制造中的一道關(guān)鍵工序,保證焊接之后的真空室不會產(chǎn)生漏氣現(xiàn)象,須合理設計焊接結(jié)構(gòu),提高焊接質(zhì)量,處在超高真空的內(nèi)壁粗糙度要拋光使室外室內(nèi)表面很光潔,須特別注意的是需做好防止生銹的措施。
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